Kupferfolien-Herstellung
Auswaschen von hochreiner CuSO4-Lösung vor der Elektrolyse in der Herstellung von Kupferfolie für Leiterplatten (PCB)
Graphitoxid (GO)
Filtration von Oxidationsmitteln und GO nach der Reaktion mit Graphit
Hochreines Aluminiumoxid (HPA)
Filtration von Al(OH)3, nach der Reinigungsstufe bei der Herstellung von Aluminiumoxid für die Saphirproduktion
LCD-Herstellung
Abtrennung von Schlamm aus einer Mischung aus sehr starken Säuren, wie z.B. HF und HCl, H2SO4 während der LCD-Glasätzung
Herstellung von Li-Batterien
Filtration von Nanopartikeln bei der Herstellung von Elektroden
BeleuchtungFiltration von Halophosphaten
SilanFiltration von DPR Schlacke bei der Herstellung von Silan
FotolackFiltration von Laugen (NaOH)
Silizium-Ingot- und Wafer-Schneiden
Abtrennung von ultrafeinen Partikeln aus dem Kühlwasser
Silizium-Wafer-Bearbeitung
Filtration des Kühlwassers beim Rückseitenschleifen und bei Sägeprozessen